SỬ DỤNG ĐỘ LỆCH CHUẨN CỦA ĐỘ PHÂN CỰC DoP ĐỂ NÂNG CAO CHẤT LƯỢNG PHÁT HIỆN CÁC MỤC TIÊU TRÊN BỀ MẶT NỀN

Abstract

Bài báo đề xuất một phương pháp nâng cao chất lượng phát hiện mục tiêu trên bề mặt nền sử dụng độ lệch chuẩn của độ phân cực DoP trong tín hiệu phản xạ từ mục tiêu. Nhóm tác giả thực hiện khảo sát chất lượng phát hiện mục tiêu trên bề mặt nền sử dụng độ phân cực DoP và độ lệch chuẩn của DoP với các dạng mục tiêu khác nhau, trên các mô hình nhiễu nền Rayleigh, Weibull và Laplace. Đồng thời khảo sát trường hợp đặc biệt khi mục tiêu có tham số DoP giống với nhiễu nền. Kết quả chỉ ra rằng, hiệu quả của phương pháp sử dụng độ lệch chuẩn của DoP trong bài toán phát hiện mục tiêu trên bề mặt nền đã tăng lên đáng kể so với trường hợp chỉ sử dụng hệ số DoP.